国产半导体路在何方，瓦森纳与光刻机你了解多少

光刻机（Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的重要设备。一台光刻机主要包括了曝光系统和对准系统两个部分。光刻机能够利用曝光系统发射出的紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜，将器件或电路结构临时“复制”到硅片上。根据工作方式，光刻机又可分为两种。第一种是模板与图样大小一致，曝光时模板紧贴晶圆的Contact Aligner。第二种则是利用类似投影机原理，能够获得比模板更小的曝光图样的Stepper。

　　让我们先将时光倒回到2018年的12月，不知道大家还记不记得有过这样一条新闻：荷兰光刻机制造公司ASML对外宣称，其主要的元器件供应商Prodrive工厂于12月1日突生大火。ASML预计2019年年初的的供货将遭到延期。